実績

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■JST 先端国際共同研究推進事業(ASPIRE) 2024年2月~2026年3月 (研究分担者)

研究タイプ: TOP研究者/TOPチームのためのASPIRE
研究課題名:強誘電体ルネッサンス:ペロブスカイトを凌駕する「第四世代材料」で実現するカーボンニュートラル
研究代表者:舟窪 浩 東京工業大学 物質理工学院 教授
研究分担者:吉村 武

相手側研究代表者
(ドイツ)ウべ シュローダー 非営利会社NamLab 副科学部長・主任研究者
(米国)スーザン トロイラー-マッキンストリー ペンシルベニア州立大学 材料工学科 教授

第71回応用物理学会春季学術講演会

-2024年3月、東京 –

■酸化物材料の圧電デバイス応用 圧電MEMS共振器を用いた機械学習デバイス   吉村 武
■The effect of the seed layer thickness on the electrical properties of (100) BiFeO3 epitaxial films   S. Aphayvong
■複数ターゲットPLDによるエピタキシャルYbFe2O4薄膜の組成制御   葉山 琢充
■スパッタ法によるAl1-xScxN/Siヘテロ構造の作製  山田 洋人
■スパッタ法によるCe,Mn置換ZnO薄膜のエピタキシャル成長と電気的特性評価  阪口 萌生
■PLD法による強相関強誘電体YbMnO3薄膜の組成制御とその誘電特性に及ぼす影響   市川 颯大
■Non-doped HfO2 ALD 薄膜成長における非平衡相の安定化   市川 龍斗
■物理リザバーコンピューティング応用に向けた強誘電体ゲートFETの作製と電気特性評価   請関 優
■強相関強誘体h-YMnO3薄膜の成長と強誘電性評価   古川 勝裕
■シード層膜厚がSi基板上(100)BiFeO3薄膜の結晶構造におよぼす影響   高城 明佳

 

令和6年[2024] 3月

大学院生 嶋本 健人君、内藤圭 吾君が 2023年度 工学研究科 学生顕彰 を受賞

 

日本セラミックス協会 2024年年会

-2024年3月、熊本大学-

■機能性セラミックス薄膜の成長プロセス制御による準安定相の創製と物性制御(日本セラミックス協会・学術賞受賞講演)  藤村 紀文

令和5年[2023] 12月

大学院生 内藤圭吾君が第40回強誘電体会議(FMA40)において「学生最優秀発表賞」を受賞

●ワイドバンドギャップ半導体Ga2O3基板上へのHfxZr1-xO2薄膜のALD成長      内藤圭吾

8th Japan-Slovenia workshop

-Dec. 2023, Online-

■Crystal structure and electrical properties of epitaxial (100)BiFeO3 thin films deposited on Si substrate by sputtering method  K. Takaki

2023年 論文発表リスト

●Selective isolation of mono to quad layered 2D materials via sonication-assisted micromechanical exfoliation
T. Nakamoto, K. Matsuyama, M. Sakai, C.-T. Chen, Y.-L. Chueh, S. Mouri, T. Yoshimura, N. Fujimura, D. Kiriya
ACS NANO 18, 2455-2463 (2024)
http://10.26434/chemrxiv-2022-lgp8l

●Low-temperature homoepitaxial growth of β-Ga2O3 thin films by atmospheric pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition technique
Md. Earul Islam, Kento Shimamoto, Takeshi Yoshimura, Norifumi Fujimura
AIP Advances 13, 115224 (2023)
http://10.1063/5.0178100

●The ferroelectric orthorhombic phase formation of Hf0.5Zr0.5O2 thin films on (-201) β–Ga2O3 substrate by atomic layer deposition
K. Naito, K. Yamaguchi, T. Yoshimura, and N. Fujimura
Japanese Journal of Applied Physics 62, SM1018 (2023)
http://10.35848/1347-4065/ace917

●Piezoelectric MEMS-based physical reservoir computing system without time-delayed feedback
Takeshi Yoshimura, Taiki Haga, Norifumi Fujimura, Kensuke Kanda, and Isaku Kanno
Japanese Journal of Applied Physics 62, SM1013 (2023)
http://10.35848/1347-4065/ace6ab

●Spontaneous crystal fluctuation in hydrocarbon polymer–coated monolayer MoS2, MoSe2, WS2, and WSe2 with strong photoluminescence enhancement
T. Nakahara†, T. Kobayashi†, T. Dohi, T. Yoshimura, N. Fujimura, D. Kiriya († Equal contribution)
ChemRxiv (2023)
http://10.26434/chemrxiv-2023-gxzqw

International Workshop on Piezoelectric Materials and Applications in Actuators (IWPMA)2023

-Nov. 2023, Jeju, Korea-

■Physical implementation of machine learning by piezoelectric MEMS resonators  T. Yoshimura
■Electromechanical properties of the piezoelectric MEMS vibration energy harvesting with bistable-dynamic-magnifier two degree of freedom system   S. Aphayvong
■Epitaxial growth of (100) BiFeO3 thin films on Si substrates by combinatorial sputtering method    K. Takaki

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