大学院生 宝栄周弥君が国際会議IEEE IFCS-ISAF 2020にて
IEEE IFCS-EFTF 2020 student Best Paper competition finalist に選出されました

●Formation Process of Metastable Phases of Al-Doped HfO2 Films Directly on Si by Atomic Layer Deposition　　　　S. Takarae