研究設備
測定関連
超高真空極低温高温プローバ(サーマルブロック;20~773 K、4プローブ+バックゲート)
(半導体デバイスアナライザ Keysight B1500A、各種ガス導入系、四重極質量分析計によるガス分析)
真空低温プローバ(サーマルブロック SB-LNP2S;90~500 K、4プローブ+バックゲート)
(半導体デバイスアナライザ Keysight B1500A、各種ガス導入系、可視~近赤外の波長可変光源、インピーダンスアナライザ 日置電機 IM3570)
大気中プローバ(サーマルブロック SB-ROOMP;室温のみ、4プローブ+バックゲート)
(2チャンネルソースメータ Keithley 2636A)
簡易プローバ(ESSテック SP-0;室温のみ、2プローブ+バックゲート)
(恒温恒湿器による温湿度制御、2チャンネルソースメータ Keysight B2902A)
分析関連
顕微ラマン分光装置(アイリックス STR)
走査型プローブ顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ AFM5200S)
ケルビンプローブ(KP Technology UHVKP020)
ガスクロマトグラフ(島津製作所 Nexis GC-2030)
接触角計(エキシマ SImage Standard 100II)
素子作製関連
原子層堆積装置(Anric Technologies AT-410)
3ゾーン式管状炉(アサヒ理化 ARF3;有機半導体単結晶・カルコゲナイド系原子膜の合成用)
1ゾーン式水素アニール炉(アサヒ理化 ARF1をベースに半自作;グラフェンの合成用)
抵抗加熱式2源蒸着機(自作;金属薄膜形成用)
抵抗加熱式1源蒸着機(自作;分子薄膜形成用)
スピンコータ(ミカサ MS-A100;電子線レジストや分子薄膜のコーティングに使用)
酸素プラズマアッシャー(Harrick Plasma PDC-32G;基板洗浄や原子膜エッチングに使用)
紫外線照射装置(ウシオ電機 SP7;表面改質やエッチングに使用)
マスクレスフォトリソグラフィー装置(アームスシステム)
貼り合わせステージ(和泉テック 特注品;原子膜同士の貼り合わせに使用)
その他設備
ドラフトチャンバー(主に水素アニール炉排気・チオール処理に使用)
活性炭フィルター型ダクトレスヒュームフード中型(DL-09;主にシリコンウェハ洗浄に使用)
活性炭フィルター型ダクトレスヒュームフード小型(DL-06;主にレジストコートに使用)
金属顕微鏡(オリンパス BX51M;最大1000倍の落射専用光学顕微鏡)
工作機械各種(ボール盤、糸のこ盤、PCBカッター;小物の自作に使用)
上記の他に、こちらの共通機器群が使用可能です。