プロセス物理研究グループ

教授

平井 義彦

Yoshihiko Hirai

B4棟2階W207 [内線6608]

教授

川田 博昭

Hiroaki Kawata

B4棟2階W208 [内線6609]

准教授

安田 雅昭

Masaaki Yasuda

B4棟2階W208 [内線6609]


 

プロセス物理研究グループではナノデバイス、ナノ・マイクロマシン、バイオチップの作製を目的としたリソグラフィ、エッチング、成膜などの微細加工プロセス技術の研究を行っています。
特に近年では、被加工材料にモールドをプレスし、微細構造を転写するナノインプリント法を中心に、その基礎となる物理化学(樹脂のレオロジー(流動学)、光化学反応、界面のトライボロジー(摩擦学)など)を研究しています。また、ナノインプリント法を用いて様々な機能材料に対してナノ構造を作製し、各種デバイスへの応用展開を行っています。
さらに、高精度・高効率なナノ加工を実現するための次世代プロセスシミュレーション技術の確立を目指し、分子動力学法をベースとしたナノインプリント法や電子ビーム加工のシミュレーション開発を行っています。