測定関連

超高真空極低温高温プローバ（サーマルブロック；20～773 K、4プローブ＋バックゲート）
（半導体デバイスアナライザ Keysight B1500A、各種ガス導入系、四重極質量分析計によるガス分析）

真空低温プローバ（サーマルブロック SB-LNP2S；90～500 K、4プローブ＋バックゲート）
（半導体デバイスアナライザ Keysight B1500A、各種ガス導入系、可視～近赤外の波長可変光源、インピーダンスアナライザ 日置電機 IM3570）

大気中プローバ（サーマルブロック SB-ROOMP；室温のみ、4プローブ＋バックゲート）
（2チャンネルソースメータ Keithley 2636A）

簡易プローバ（ESSテック SP-0；室温のみ、2プローブ＋バックゲート）
（恒温恒湿器による温湿度制御、2チャンネルソースメータ Keysight B2902A）

 

分析関連

顕微ラマン分光装置（アイリックス STR）

走査型プローブ顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ AFM5200S）

ケルビンプローブ（KP Technology UHVKP020）

ガスクロマトグラフ（島津製作所 Nexis GC-2030）

接触角計（エキシマ SImage Standard 100II）

 

素子作製関連

原子層堆積装置（Anric Technologies AT-410）

3ゾーン式管状炉（アサヒ理化 ARF3；有機半導体単結晶・カルコゲナイド系原子膜の合成用）

1ゾーン式水素アニール炉（アサヒ理化 ARF1をベースに半自作；グラフェンの合成用）

抵抗加熱式2源蒸着機（自作；金属薄膜形成用）

抵抗加熱式1源蒸着機（自作；分子薄膜形成用）

スピンコータ（ミカサ MS-A100；電子線レジストや分子薄膜のコーティングに使用）

酸素プラズマアッシャー（Harrick Plasma PDC-32G；基板洗浄や原子膜エッチングに使用）

紫外線照射装置（ウシオ電機 SP7；表面改質やエッチングに使用）

マスクレスフォトリソグラフィー装置（アームスシステム）

貼り合わせステージ（和泉テック 特注品；原子膜同士の貼り合わせに使用）

 

その他設備

ドラフトチャンバー（主に水素アニール炉排気・チオール処理に使用）

活性炭フィルター型ダクトレスヒュームフード中型（DL-09；主にシリコンウェハ洗浄に使用）

活性炭フィルター型ダクトレスヒュームフード小型（DL-06；主にレジストコートに使用）

金属顕微鏡（オリンパス BX51M；最大1000倍の落射専用光学顕微鏡）

工作機械各種（ボール盤、糸のこ盤、PCBカッター；小物の自作に使用）

 

上記の他に、こちらの共通機器群が使用可能です。