研究設備

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研究設備

製膜装置

主な製膜装置が揃っています。

p002  p015

分子線エピタキシー装置             大気圧プラズマ化学気相成長装置

 

p006  p003

大気圧プラズマ装置               レーザーアブレーション製膜装置(1号機)

p004  p010

レーザーアブレーション製膜装置(2号機)    RFマグネトロンスパッタ装置

p012  p013

スピンコーター                 急速加熱炉

p016  

電気化学堆積装置                 原子層堆積装置

 

構造解析装置

作製した試料の結晶構造を解析します。

p007  

4軸x線解析装置

 

電気特性評価装置

半導体、誘電体の物性評価を行っています。

p008  p021

ホール効果測定装置(液体ヘリウム温度対応)   走査プローブ顕微鏡(微小領域の電気特性評価も可能です)

p009  p020

誘電特性評価装置一式        レーザードップラ振動計(MEMSデバイスの評価に使います)

p022

インピーダンスアナライザ

  

半導体パラメータアナライザー一式

 

光学特性評価装置

p017  p014

光学特性評価装置                分光光度計

顕微ラマン分光測定器(フォトルミネッセンス測定も可能です。)

 

デバイス作製用装置

研究室内にクリーンブースが設置されています。

  

マスクアライナー(フォトリソグラフが可能です) マスクレスアライナー

ワイヤーボンダー

 

その他

p011

超純水製造装置

  

光学顕微鏡             グローブボックス

  p018

接触角計測装置           冷間等方圧加圧装置

 

共通機器

電界放出形走査電子顕微鏡

透過電子顕微鏡

物理特性測定システム(PPMS)