研究設備
製膜装置
主な製膜装置が揃っています。
分子線エピタキシー装置 大気圧プラズマ化学気相成長装置
大気圧プラズマ装置 レーザーアブレーション製膜装置(1号機)
レーザーアブレーション製膜装置(2号機) RFマグネトロンスパッタ装置
スピンコーター 急速加熱炉
電気化学堆積装置 原子層堆積装置
構造解析装置
作製した試料の結晶構造を解析します。
4軸x線解析装置
電気特性評価装置
半導体、誘電体の物性評価を行っています。
ホール効果測定装置(液体ヘリウム温度対応) 走査プローブ顕微鏡(微小領域の電気特性評価も可能です)
誘電特性評価装置一式 レーザードップラ振動計(MEMSデバイスの評価に使います)
インピーダンスアナライザ
半導体パラメータアナライザー一式
光学特性評価装置
光学特性評価装置 分光光度計
顕微ラマン分光測定器(フォトルミネッセンス測定も可能です。)
デバイス作製用装置
研究室内にクリーンブースが設置されています。
マスクアライナー(フォトリソグラフが可能です) マスクレスアライナー
ワイヤーボンダー
その他
超純水製造装置
光学顕微鏡 グローブボックス
接触角計測装置 冷間等方圧加圧装置
共通機器
電界放出形走査電子顕微鏡
透過電子顕微鏡
物理特性測定システム(PPMS)